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半导体气体中的痕量杂质分析系统

产品简介:随着半导体技术的进步以及半导体激光器在通信、信息处理等领域的应用日益活跃,制造过程中使用的特种气体种类和数量不断增加。本系统采用气相色谱法,可自动检测半导体材料气体中痕量杂质及组分含量。

产品型号:

更新时间:2025-11-27

厂商性质:生产厂家

访 问 量 :33

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产品介绍

可测量锗烷(GeH)、磷化氢(PH)、砷烷(AsH)、二氯硅烷(DCS) 、三氯硅烷(TCS)等半导体气体中的杂质成分。

通过高性能气相色谱仪可实现高精度自动检测(操作简便)。

可检测氢气(H2)、氧气(O2)、氮气(N2)、甲烷(CH4)、一氧化碳(CO)、二氧化碳(CO2)、C2组分、C3组分等杂质。


可测量锗烷(GeH)、磷化氢(PH)、砷烷(AsH)、二氯硅烷(DCS) 、三氯硅烷(TCS)等半导体气体中的杂质成分。

通过高性能气相色谱仪可实现高精度自动检测(操作简便)。

可检测氢气(H2)、氧气(O2)、氮气(N2)、甲烷(CH4)、一氧化碳(CO)、二氧化碳(CO2)、C2组分、C3组分等杂质。


可测量锗烷(GeH)、磷化氢(PH)、砷烷(AsH)、二氯硅烷(DCS) 、三氯硅烷(TCS)等半导体气体中的杂质成分。

通过高性能气相色谱仪可实现高精度自动检测(操作简便)。

可检测氢气(H2)、氧气(O2)、氮气(N2)、甲烷(CH4)、一氧化碳(CO)、二氧化碳(CO2)、C2组分、C3组分等杂质。






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